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光学设计实用技术

光学设计实用技术

出版社:上海科学技术出版社出版时间:2018-12-01
开本: 16开 页数: 196
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光学设计实用技术 版权信息

  • ISBN:9787547842546
  • 条形码:9787547842546 ; 978-7-5478-4254-6
  • 装帧:60g胶版纸
  • 册数:暂无
  • 重量:暂无
  • 所属分类:>>

光学设计实用技术 内容简介

《光学设计实用技术》是以工程光学为基础,结合成像光学和非成像光学的经典实例,全面系统地阐述了以ZEMAX光学设计软件作为辅助手段的光学设计实用技术。全书共7章,层次分明、逻辑清楚、案例详实,在设计实例中也穿插了LED光学设计的前沿。本书包括基本的像差理论和成像质量评价方法,ZEMAX光学设计软件功能介绍、优化、公差分析、非成像光学设计,以及大量光学设计实例。

光学设计实用技术 目录

第1章 绪论
1.1 光学设计简述
1.1.1 光学设计的概念
1.1.2 光学设计的一般过程
1.2 光学设计软件
1.2.1 光学设计软件的发展简况
1.2.2 常见的光学设计软件简介

第2章 光学系统的像差
2.1 球差
2.2 彗差
2.3 像散
2.4 场曲(像面弯曲)
2.5 畸变
2.6 色差

第3章 像质评价
3.1 波像差与瑞利标准
3.2 分辨率
3.3 点列图
3.4 光学传递函数
3.5 点扩散函数
3.6 能量分析
3.7 像分析

第4章 ZEMAX光学系统优化
4.1 优化方法
4.1.1 Global Search和Hammer Optimization区别
4.1.2 局部优化(Optimize)缺点
4.1.3 全局搜索的优势
4.2 评价函数使用方法
4.2.1 优化中的术语定义
4.2.2 评价函数方程表达
4.2.3 波前优化方法
4.2.4 光斑尺寸优化方法
4.2.5 角谱半径优化方法
4.3 坐标断点
4.3.1 自带坐标断点的实现
4.3.2 坐标断点面的实现
4.4 多重结构使用方法
实例:模拟元件的变化

第5章 ZEMAX公差分析
5.1 公差
5.1.1 误差来源
5.1.2 公差
5.1.3 公差操作数
5.2 默认公差
5.2.1 表面公差
5.2.2 元件公差
5.3 公差分析三种法则
5.3.1 敏感度分析
5.3.2 反向敏感度分析
5.3.3 蒙特卡罗分析

第6章 ZEMAX非序列照明设计
6.1 非序列模型
6.1.1 非序列光线追击
6.1.2 面元反射镜
6.1.3 光源分布
6.1.4 棱镜
6.1.5 光线分束
6.1.6 散射
6.1.7 衍射光学元件
6.1.8 相干模拟
6.1.9 吸收分析
6.2 创建一个简单的非序列系统
6.2.1 建立基本系统
6.2.2 建立反射镜
6.2.3 建立光源
6.2.4 放置探测器
6.2.5 追击到达探测器的分析光线
6.3 混合序列模式及序列转换成纯非序列
6.3.1 转换NSC的工具
6.3.2 初始结构
6.3.3 插入非序列光源
6.3.4 放置探测器物体
6.4 非序列系统优化
6.4.1 用序列光线优化非序列组中的物体
6.4.2 在非序列模式中优化光源和探测器

第7章 ZEMAX光学设计实例
7.1 单透镜设计
7.1.1 单透镜设计要求及系统参数设置
7.1.2 建立单透镜的初始结构
7.1.3 单透镜初次优化结果分析及再优化
7.2 双胶合透镜设计
7.2.1 双胶合透镜设计要求及系统参数设置
7.2.2 建立双胶合透镜的初始结构
7.2.3 设置变量、优化及像质评价
7.2.4 玻璃优化
7.3 双高斯照相物镜设计
7.3.1 双高斯照相物镜设计要求及系统参数设置
7.3.2 查看系统初值及快速聚焦
7.3.3 设置变量及评价函数
7.4 扫描振镜和折光系统设计
7.4.1 扫描振镜设计要求及系统参数设置
7.4.2 多重结构实现扫描角度设置及优化
7.5 变焦镜头设计
7.5.1 变焦镜头设计的基本原理
7.5.2 变焦镜头设计要求及系统参数设置
7.5.3 用多重结构实现变焦
7.5.4 变焦镜头优化

参考文献
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光学设计实用技术 作者简介

李澜,上海应用技术大学理学院副教授,主要从事光学、物理化学研究。 邹军,上海应用技术大学理学院副教授,研究方向:半导体薄膜制备及分析,半导体器件测试与分析,半导体封装技术研究,LED驱动及应用产品研究等。 王凤超,上海应用技术大学理学院讲师,研究方向:光电材料与器件,LED技术及应用,激光物理。 居家奇,上海应用技术大学理学院讲师,研究方向:光源与照明。

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